Microchem SU-8光刻胶2000系列|入口负性光刻胶_吉林快三股份

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SU8光刻胶
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    Microchem SU-8光刻胶 2000系列

    • 型号SU-8 2000.5/2002/2005/2007/2010/2015

    入口SU-8光刻胶系列,降服了庞大光刻胶采取UV光刻深宽比不敷的标题,在近紫外光(365nm-400nm)范围内光吸取度很低,且整个光刻胶层所失失的曝光量匀称划一,可失失具有垂直侧壁和高明宽比的厚膜图形。

    1. 过细信息

    SU 8光刻胶系列产品简介:

    新型的化学增幅型负像 SU- 8 胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶,降服了庞大光刻胶采取 UV光刻招致的深宽比不敷的标题,十分妥当于制备高明宽比微布局。SU- 8 光刻胶在近紫外光(365nm- 400nm)范围内光吸取度很低,且整个光刻胶层所失失的曝光量匀称划一,可失失具有垂直侧壁和高明宽比的厚膜图形;它还具有精良的力学遵从、抗化学蜕化性和热坚定性。SU- 8 在遭到紫外辐射后发生交联,是一种化学扩展负性胶,可以构成台阶等布局庞大的图形;且 SU- 8 胶不导电,在电镀时可以直接作为绝缘体运用。由于具有较多益处,SU- 8 胶正被冉冉运用于 MEMS、吉林快三封装和微加工等范围。如今,直接采取 SU- 8 光刻胶来制备深宽比高的微布局与微零件曾经成为微加工范围的一项新技术。


    SU 8光刻胶光刻前洗濯工艺:

    为了失失更好的光刻结果,在举行光刻胶旋涂之前,需要对基材举行洗濯。常用的洗濯要领是运用浓硫酸及双氧水的殽杂溶液浸泡,随后用去离子水洗濯并用氮气吹干。除此之外还可以运用应声离子刻蚀或等离子外貌洗濯仪洗濯。


    SU 8光刻胶光刻工艺:

    将 SU- 8 光刻胶组分旋涂在基材上,旋涂厚度几至几百微米。涂覆晶片颠末前烘并冷却至室温。在烘干进程中,优先选择加热匀称且温度控制准确的加热板;不克不及运用鼓风单调箱,防范由于光刻胶外貌优先固化从而抑制内层光刻胶溶剂的挥发。冷却后,将负光掩模与涂覆晶片打仗并在汞灯的紫外辐射剂量10-250mJ/㎝²条件下举行曝光。曝光终了后,选择契合的烘烤温度及时间。将晶片在显影液中浸渍显影,随后用氮气吹干。

    SU-8光刻胶的益处:

    1、SU-8光刻胶在近紫外光(365nm- 400nm)范围内光吸取度很低,且整个光刻胶层所失失的曝光量匀称划一,可失失具有垂直侧壁和高明宽比的厚膜图形;

    2、SU-8光刻胶具有精良的力学遵从、抗化学蜕化性和热坚定性;

    3、SU-8在遭到紫外辐射后发生交联,是一种化学扩展负性胶,可以构成台阶等布局庞大的图形;

    4、SU-8胶不导电,在电镀时可以直接作为绝缘体运用。

    由于具有较多益处,SU-8 胶正被冉冉运用于 MEMS、吉林快三封装和微加工等范围。如今,直接采取 SU8光刻胶来制备深宽比高的微布局与微零件曾经成为微加工范围的一项新技术。在微流控吉林快三加工中,SU-8紧张用于快速模塑法加工PDMS微流控吉林快三


    光刻胶型号及参数

    光刻胶称谓

    型号

    匀胶厚度

    规格

    Merck AZ 正/负可转换型光刻胶

    AZ 5214

    0.5-6μm

    100ml;500ml;1L;1加仑

    AZ 50XT 正胶

    AZ 50XT

    40-80μm

    100ml;500ml;1夸脱

    AZ 9260 正胶

    AZ 9260

    6.2-15μm

    100ml;250ml;500ml;1L;1加仑

    AZ2020正胶

    AZ nl0F2020

    >4μm

    1加仑

    AZ1500正胶

    AZ 1500(4.4cp/20cp/38cp)

    None   

    1加仑

    AZ9620/AZ4330正胶

    AZ 9620/AZ 4330

    None  

    1加仑

    MerckAZ1518正胶

    AZ 1518

    1-4.3μm

    1加仑

    AZ 4620 正胶

    AZ 4620

    10-15μm

    100ml;500ml;1L;

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 2000.5

    0.5-0.8μm

    100ml;500ml;1L;1加仑

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 2002

    2-2.9μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 2005

    5-8μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 2007

    7-13μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 2010

    10-20μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 2015

    13-38μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 2025

    20-80μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 2035

    35-120μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 2050

    40-170μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 2075

    60-240μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 2100

    100-260μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 2150

    190-650μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 3005

    5-10μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 3010

    8-15μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 3025

    22-60μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 3035

    32-80μm

    100ml;250ml;500ml;1L

    MicroChem SU-8 负胶

    SU-8 3050

    44-100μm

    100ml;250ml;500ml;1L



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    标签:   光刻胶 光刻工艺 SU 8